噴膠機 ASPAPRAY
| 設備配置 | 2-4 chamber（option: COT、DEV） |
| 設備產(chǎn)能 | 20WPH |
| 襯底材質(zhì) | Si、Glass等 |
| 適用工藝 | 深孔噴膠TSV、高深寬比臺階噴膠. |
| 工藝指標 | 平面均勻性≤5%@5-10um；臺階覆蓋率≥30% |
| 應用領域 | 先進封裝、MEMS、科研等 |
| 技術特征 | ?適用于表面刻有深孔的高表面形貌圓形或方形基片的噴涂工藝要求，超聲波霧化光刻膠膠粒，可均勻覆蓋臺階表面，邊緣，側(cè)壁，底部； ?噴嘴配有自動清洗功能； ?設備可配置勻膠腔體和顯影腔體。 |
| 設備尺寸 | 2665*1724*2432mm（W*D*H） |